手動(dòng)真空角閥是一種專用于高真空或超高真空系統(tǒng)中的手動(dòng)控制閥門,其閥體呈90°直角結(jié)構(gòu),主要用于接通或切斷真空管路中的氣流,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、鍍膜設(shè)備、粒子加速器、科研實(shí)驗(yàn)裝置及分析儀器等對(duì)密封性和潔凈度要求高的領(lǐng)域。
閥體通常采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼(如304或316L)整體加工而成,內(nèi)表面經(jīng)電解拋光處理(粗糙度Ra≤0.4μm),以最大限度減少表面吸附和氣體釋放。密封方式多采用金屬密封(如銅墊、不銹鋼刀口密封)或高性能氟橡膠(如FKM、FFKM)O型圈,可滿足從粗真空(10?Pa)到超高真空(≤10??Pa)的全范圍使用需求。其中,金屬密封角閥可耐受高溫烘烤(200–450℃),適用于需徹d除氣的潔凈真空環(huán)境。
1、半導(dǎo)體制造
應(yīng)用場(chǎng)景:在光刻機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、干法刻蝕機(jī)等緊湊真空管路中,手動(dòng)真空角閥用于連接主泵(如分子泵)與前級(jí)泵(如干泵),或工藝腔與前級(jí)泵之間的粗抽/預(yù)真空管路。
優(yōu)勢(shì):直角結(jié)構(gòu)適配設(shè)備內(nèi)部狹小空間,減少氣體吸附與流動(dòng)阻力;手動(dòng)操作便于精細(xì)調(diào)試,保障晶圓加工潔凈度;316L ELI閥體可防金屬離子污染,滿足超高真空(≤1.3×10??Pa)需求。
2、實(shí)驗(yàn)室科研
應(yīng)用場(chǎng)景:在多通道真空反應(yīng)裝置、質(zhì)譜儀、掃描電子顯微鏡(SEM)等設(shè)備中,手動(dòng)真空角閥用于隔離或接通真空系統(tǒng),營(yíng)造無(wú)污染實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
優(yōu)勢(shì):手動(dòng)型便于實(shí)驗(yàn)人員根據(jù)需求靈活調(diào)節(jié);角型結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)多管路垂直/水平轉(zhuǎn)向集成,節(jié)省實(shí)驗(yàn)臺(tái)空間;電解拋光流道內(nèi)壁(Ra≤0.4μm)減少氣體吸附,提高實(shí)驗(yàn)重復(fù)性。
3、航空航天
應(yīng)用場(chǎng)景:在衛(wèi)星、火箭等狹小空間真空系統(tǒng)中,手動(dòng)真空角閥用于調(diào)節(jié)空間艙內(nèi)壓力,或隔離引擎細(xì)小區(qū)域的氣體流動(dòng)。
優(yōu)勢(shì):全金屬結(jié)構(gòu)(如304/316L不銹鋼)耐高溫、抗腐蝕,適應(yīng)極d環(huán)境;低放氣設(shè)計(jì)(放氣率≤5×10??Pa·L/s)確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
4、光伏產(chǎn)業(yè)
應(yīng)用場(chǎng)景:在PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)設(shè)備中,手動(dòng)真空角閥用于邊角管路的連接與控制,優(yōu)化氣體傳輸路徑。
優(yōu)勢(shì):90°流道結(jié)構(gòu)減少流阻,提高沉積效率;手動(dòng)操作降低設(shè)備復(fù)雜度,降低維護(hù)成本。
